CleanSurF

Reinigungstool für Wafer-Transportboxen in der Halbleiter-Produktion

Optimale Partikel- und AMC-Entfernung auf Carriern, Boxen, SMIFs und FOUPs

CleanSurF® – der neue AP&S Cleaner sorgt für maximale Reinheit gemäß höchster Reinheitsanforderungen, um die Prozessketten in der Halbleiterfertigung zu sichern und maximale Produktivität sicherzustellen.

Bei der Produktentwicklung waren für uns folgende Überlegungen entscheidend: Wir wollten einen Cleaner nach neustem technischen Standard entwickeln, welcher sowohl die manuelle wie auch automatische Beladung ermöglicht und durch hohe Ladekapazität überzeugt. Unser Ziel, eine Anlage mit effizientem Durchsatz und attraktiven TCO zu realisieren, haben wir mit unserem neuen CleanSurF® erreicht.

Tobias Bausch, CMO &CTO bei AP&S

Optimale Reinigungsleistung

Ein neuentwickeltes Düsenkonzept ermöglicht eine flexible, 360 Grad-umfassende und getrennt steuerbare Handhabung der Düsen. Im Tool sind über 50 Düsen (DIW- sowie N2-Düsen) verbaut, diese sorgen für optimale Partikel- und AMC-(airborne molecular contamination)-Entfernung.

Attraktive TCO Werte

Der Reiniger überzeugt mit einem sehr niedrigen Verbrauch von Wasser und Stickstoff sowie seiner extrem kompakten Stellfläche von 3 m².

Hohe Ladekapazität

Ladekapazität von bis zu 12 x 12 Zoll FOUPs pro Run bei optimierter Rezeptzeit.

Neuste Softwaretechnologie

Neuste Softwaretechnologie inklusive HMI nach Semi II-Standard garantieren höchste Prozesssicherheit. Übersichtliches Monitoring inkl. schematischer Darstellung der Prozesskammer, Prozesswerte und aktiver Sprühelemente sowie einfache Rezeptverwaltung und vielfältige Exportfunktionen sorgen für eine komfortable und einfache Systemhandhabung.

Maximale Flexibilität

Das Anlagenkonzept ist für die manuelle und automatische Beladung optimiert. Es verarbeitet alle gängigen Typen von Boxen, Carriern, FOUPs und SMIFs, die in der Halbleiterproduktion eingesetzt werden.

Praktische Schleusenfunktion

Durch die Beladung reinraumseitig und den Zugang zum Servicebereich grauraumseitig, kann wertvolle Reinraumfläche eingespart werden. Optional ist durch eine zweite Prozesskammertür eine Schleusenfunktion für eine Reinraum-, Grauraum-Trennung möglich.

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