Es ist eine schwierige Zeit für die Halbleiterbranche, schwierige Zeit für Entscheidungen. Unruhe und Ungewissheit führen dazu, dass Investitionen verschoben werden. Doch was spricht dagegen diese Zeit effektiv dafür zu nutzen, relevante Informationen für Entscheidungen einzuholen? Denn verschoben oder nicht, auf jede Krise folgt ein Aufschwung und für diesen sollte man vorbereitet sein.
Was die Entscheidung für Ihre nächste Nassprozessanlage angeht, unterstützt Sie das AP&S Demo Center. Unser Team von erfahrenen Prozessingenieuren hilft Ihnen dabei alle relevanten Entscheidungskriterien lückenlos abzuchecken und Entscheidungen bestens vorzubereiten.
Wie funktioniert es?
Sie fragen bei uns eine Demonstration des Nassprozesses bzw. der Nassprozessanlage an, die Sie interessiert. Per live Video-Chat können Sie dem Nassprozess beiwohnen und die Resultate auf Ihrem Bildschirm sehen. Sollten Sie zeitlich verhindert sein? Kein Problem, unser Team nimmt den Prozess mit der integrierten Kamera in der Prozesskammer auf und schickt Ihnen die Aufnahmen zu.
Zusätzlich erhalten Sie einen detaillierten Testreport inclusive aller relevanten Prozess – und Anlagenparameter, Angaben zum Chemikalienverbrauch und mehr, so dass anhand dieser Daten, Sie in der Lage sein werden die CoO des Equipments für Ihre Fertigung berechnen zu können.
Gemäß den Prozessergebnissen der Demonstration erstellen unsere Prozessingenieure eine Empfehlung für eine plausible Anlagenkonfiguration, die passgenau auf Ihre Bedürfnisse und Anforderungen zugeschnitten ist.
Unser Demo Center entspricht der Reinheitsklasse ISO5. Somit werden alle Prozessdemonstrationen unter produktionsnahen Bedingungen durchgeführt. Durch die Prozessierung unter Reinraumbedingungen können verarbeitete Wafer vom AP&S Demo Center ohne zusätzliche Reinigungsschritte direkt beim Kunden analysiert und überprüft werden.
Seit 2013 steigt die Anzahl der Kundendemonstrationen im AP&S Demo Center stetig an. In 2018 wurde dieses um weitere Anlagen erweitert, ein hochmodernes Mikroskop mit CCD Kamera wurde beschafft. Es sind sowohl Single Wafer als auch einige Batch Prozess-Demonstrationen möglich.
Folgende Prozesse bieten wir Ihnen im Demo Center an: Metal Lift-off, PR-Strip, Metal Etch mit EndPoint-Detection, weitere Ätzprozesse (dHF max. 0.5%), Maskenreinigung, diverse Substratreinigungen, NID Trocknung von Standard-Substraten, Taiko, MEMS, Dünnwafern, etc.
Wir freuen uns auf Ihre Anfrage und garantieren Ihnen beste Prozessleistung und individuellen Kundensupport: demo-center@ap-s.de
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