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CleanSurF® - ein neuer AP&S-Reiniger für die Halbleiterfertigung entsteht

CleanSurF® - mit diesem kurzen Film teilen wir mit Ihnen einige Eindrücke vom Entstehungsprozess der neuen AP&S Anlage.

Im Film haben wir den neuen Reiniger von Anfang an bis zu seiner Auslieferung begleitet. Der neue AP&S-Reiniger für die Halbleiterproduktion bietet optimale Partikel- und AMS-Entfernung auf SMIFs und FOUPs, Carriern und Boxen. Der CleanSurF®-Reiniger bietet eine hohe Ladekapazität von bis zu 12 x 12 Zoll FOUPs pro Durchlauf bei optimierter Rezepturzeit. Attraktive TCO durch kompakte Stellfläche von 3 m² und geringen Verbrauch von Wasser und Stickstoff werden erreicht. Ein neues innovatives Düsenkonzept garantiert optimale Reinigungsergebnisse. Mehr als 50 Düsen (sowohl DIW- als auch N2-Düsen) sind in dem Gerät installiert. 

Lesen Sie mehr über den neuen AP&S-Reiniger auf der CleanSurF-Impressionsseite oder auf der Seite der produktionsunterstützenden Anlagen. 

Unser AP&S Vertriebsteam freut sich auf Ihre Anfrage für weitere Informationen oder für ein persönliches Gespräch zum neuen CleanSurF®.