Sind Sie auf der Suche nach einer Nassprozesslösung, die Ihren spezifischen Anforderungen perfekt entspricht? Eine Investition in eine Nassprozessanlage ist eine wichtige Entscheidung, bei der viele wichtige Aspekte und komplexe Zusammenhänge berücksichtigt werden müssen. AP&S unterstützt Sie effizient bei der Entscheidungsfindung:
Unsere Prozessingenieure unterstützen Sie bei der Prozessentwicklung und -modifikation für Standard- sowie innovative Halbleitermaterialien wie SiC, GaN-on-Si/SiC, InP. Im AP&S Nassprozess-Labor bekommen Sie einen konkreten Vergleich der Prozessleistung und -parameter auf verschiedenen Nassprozessanlagen sowie Analyse und Empfehlung für Trocknungsprozesse für tiefe Strukturen, MEMS, TSVs. Hier erhalten Sie alle erforderlichen Informationen für eine fundierte Investition in Ihre nächste Nassprozessanlage.
AP&S Demo Center in Zahlen:
66 Quadratmeter Reinraumumgebung nach ISO5; 6 Verfahrenstechniker; mehr als 25 chemische Nassprozesse.
Im AP&S Demo Center können Sie die für Sie interessanten Nassprozessanwendungen im Live-Betrieb erleben. Unser hochqualifiziertes Team von Verfahrenstechnikern erklärt Ihnen alle Details der Prozess-Anlage und beantwortet gerne Ihre Fragen. Sie erhalten einen umfassenden Testbericht mit vollständigen Parametern des Prozessaufbaus, einer Empfehlung für das Prozessrezept basierend auf den Testergebnissen und alle weiteren wichtigen Details zur Systemkonfiguration.
Das AP&S Demo Center verfügt über modernste Prüf- und Analysegeräte wie z.B. Spritzen-Flüssigkeitsprobenahmesystem SLS1100 und Partikelmessgerät LASAIR III 110. Darüber hinaus betreiben wir gemeinsame Entwicklungsprojekte mit innovationstreibenden Forschungsinstituten weltweit.
Ihre Hauptvorteile durch die Kooperation mit dem AP&S Demo Center:
1. Outsourcing von Entwicklungsprojekten für neue oder kritische Materialien und Chemikalien
2. Umfassende Entwicklungsunterstützung: die komplette Vorarbeit für die Einführung eines neuen Verfahrens wird von AP&S-Mitarbeitern für Sie erledigt
3. Basierend auf den Ergebnissen des Demo-Centers bauen Sie auf das Verfahren auf, welches sich bewährt hat und für Sie am effizientesten ist
Allgemein
✓ voll-automatisierte Doppelkammer-Anlage
✓ Prozessierung von Substraten bis max. 300mm oder 9x9“
✓ Handling von 6” + 8” Substraten mittels Vakuum- oder Edgegripper
✓ Wafermapping
✓ 7 Chemiesysteme, zwei Systeme für max. 70°C Anwendungen
✓ Drainseparierung für beide Prozesskammern
✓ Diverse Chuck-Typen: Vakuumchucks, Low contact chucks, clamp chucks, frontside protection chucks, etc.
✓ Programmierbare Chuckhöhe
Prozesskammer 1
✓ Prozesse: Metal Lift-off, PR-Strip, Solvent Processes
✓ Megasonic / Megaschalldüse
✓ Hochdruckreiniger für Lösungsmittel und/ oder DI-H2O
✓ Verschiedene Puddle/ Sprühdüsen
✓ Rückseitenschutz mit DI-H2O oder N2
Prozesskammer 2
✓ Prozesse: Metal Etch, various etch processes (dHF max. 0.5%), Maskenreinigung, Substratreinigung
✓ Megasonic / Megaschalldüse
✓ Wafer - Beschichtungssystem
✓ Verschiedene Puddle/ Sprühdüsen
✓ Rückseitenschutz mit DI-H2O oder N2
ZUSATZ-FEATURES
✓ Eintauchstation
✓ Ultraschallreinigungsmodul
✓ Endpunkterkennungssystem
✓ NID Trockner für die Trocknung von Standard-Substraten, Taiko, MEMS, Dünnwafern, etc.
✓ IPA-Konzentrationsmonitoring
✓ Prozessierung von Substraten bis 300mm oder 9x9“, verschiedene Substratdicken
✓ Batchgröße max. 25 Substrate/Carrier
✓ verschiedene Prozesscarrier möglich (High/Low-Profil, LMC, kundenspezifische Carrier)
"Wir bei AP&S sehen es als unsere Mission an, Kunden effizient bei ihrer Entscheidungsfindung und Kaufabwicklung zu unterstützen. Damit möchten wir sicherstellen, dass sie die perfekte Nassprozesslösung erhalten, die ihren spezifischen Anforderungen entspricht. Deshalb bieten wir ihnen in unserem Demo Center eine Vielzahl von Nassprozessdemonstrationen an.“
Stefan Zürcher, Team Leader Process Engineering & Laboratory
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